The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >80% јонизација чврстог катодног материјала, што доводи до-бомбардовања високоенергетским јонима у интерфејс супстрата за супериорну адхезију филма у поређењу са магнетронским распршивањем.
Вакуумска комора од нерђајућег-од нерђајућег{1}}челика са дуплим зидовима- садржи модуларне изворе лука и ПЛЦ-контролисану аутоматизовану пумпу за управљање циклусом-доле,-нагризање плазмом на лицу места, испоруку реактивног гаса и више-слојно таложење.
Техничке спецификације
|
Параметар |
Спецификација |
|
Цхамбер Сизе |
Прилагођени унутрашњи пречник (Пхи 800 мм - Пхи 1500 мм) |
|
Вессел Материал |
СУС304 / СУС316Л са дуплим{0}}зинама са унутрашњим каналима за хлађење |
|
Басе Прессуре |
<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped) |
|
Пумп{0}}Време искључења |
Атмосфера до 6,0 к 10^-2 Па ин<= 15 minutes (clean, empty) |
|
Арц Цатходес |
4 до 12 правоугаоних или кружних извора |
|
Повер Супплиес |
ДЦ лук (0-200 А) и импулсни преднапон (0-3000 В) |
|
Ротација подлоге |
Више{0}}планетарна/једнострука{1}}ротација преко магнетног флуида |
|
Контролни систем |
Сиеменс С7-1500 ПЛЦ + ИПЦ са аутоматизованим рецептима |
|
Утилити Рекуирементс |
Вода за хлађење (18-25 Ц, 0,2-0,4 МПа); Компримовани ваздух (0,5-0,7 МПа) |
Кључне карактеристике
Висока стопа јонизације:Минимизира раслојавање филма густим јонским бомбардовањем.
Контролисана стабилност лука:Програмабилни окидачи и регулација струје затворене{0}}петље сузбијају стварање макрочестица (капљица) и спречавају тровање циља под реактивним гасовима (Н2, Ц2Х2, О2).
Модуларни извори лука:Постављање са стране и врата прилагођава се сложеним 3Д геометријама алата за равномерну дистрибуцију дебљине.
Импулсна пристрасност супстрата:Синхронизовани импулси напона прилагођавају заостали напон, префињеност зрна и микротврдоћу.
Фазе ротације{0}}за тешке услове рада:Планетарни уређаји подржавају серијска оптерећења до 500 кг под високим термичким и вакуумским оптерећењима.
Конфигурација вакуумског система
Роугхинг & Роотс:Више-вишестепене суве вијчане пумпе упарене са Роотс дуваљкама спречавају контаминацију угљоводоницима све до прелазних притисака.
Високи вакуум:Турбомолекуларне или дифузионе пумпе издржавају ултра{0}}висок базни притисак.
Хватање и мерење:Опционе хладне замке течног азота; комбиновани мерачи-Пирани/Хладна катода.
Компатибилност материјала за испаравање и подлоге
Катодне мете:Чисти метали (Ти, Цр, Ал, Зр, Мо, В) и мете од легура (ТиАл, ТиСи, ЦрАл, ВЦ-Цо).
Материјали подлоге:Брзорезни челик (ХСС), карбидни уметци, челици за алате за хладну/врућу обраду (СКД11, Х13), нерђајући челик и легуре титанијума.
Пре{0}}третман:Водено ултразвучно чишћење праћено-ин ситу Ар+ или бомбардовањем металним јонима ради уклањања природних оксида.
Апликације
Алати за сечење:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >3000 ХВ површинска тврдоћа и отпорност на оксидацију.
Калупи и калупи:Заштитни слојеви на калупима за ињектирање и калупима за штанцање да би се спречило нагризање и абразивно хабање.
Аутомобили:ДЛЦ и ЦрН премази на клипним прстеновима, зупчаницима и клиновима ињектора за смањење коефицијената трења.
Медицински уређаји:Биокомпатибилни ТиН/ТиЦН премази на хируршким инструментима и имплантатима.
Опције прилагођавања
Димензије коморе и изглед прикључка:Прилагођени портови за контролу запремине и оптичке емисије (ОЕМ).
Генератори:Кориснички{0}}брендови извора напајања или специјализоване пулсне{1}}конфигурације преднапона.
Филтрирање:Магнетна управљачка поља и филтери за макрочестице за оптичку/електронску завршну обраду без{0}}капљица.
аутоматизација:СЦАДА интеграција и повезивање СКЛ базе података за евиденцију података Индустрије 4.0.
Контрола квалитета и фабричко пријемно тестирање
Тестирање цурења:Испитивање масеног спектрометра хелијума на свим завареним спојевима (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).
електрична безбедност:Отпор изолације, уземљење и верификација блокаде према ЦЕ/НФПА стандардима.
Функционално трчање на суво:72-часовни континуирани механички тест и тест циклирања вентила.
Процес верификације:Референтно тестирање купона за тврдоћу наноиндентирања и приањање на огреботине.
Инсталација и подршка
Пре{0}}инсталација:Нацрти распореда комуналних услуга су обезбеђени за струју, воду, издувне гасове и компримовани ваздух.
Пуштање у рад:Подешавање{0}}на сајту и пробно покретање под надзором фабричких инжењера.
Обука:Практични{0}}обуци за рад, замену катоде и рутинско одржавање.
Нега животног циклуса:Сигурна ВПН даљинска дијагностика и локална набавка резервних делова.
ФАК
П: Како се контролишу макрочестице (капљице) током таложења катодног лука?
О: Ублажавање се ослања на оптимизоване струје лука,-магнетно управљање великом брзином и опционе магнетне филтере за макрочестице за захтеве ултра{1}}глатке површине.
П: Која је типична стопа искоришћења циљне катоде?
О: Искоришћење се креће између 55% и 70% на основу профила ерозије катоде и конфигурације магнетног поља.
П: Може ли систем да управља реактивним таложењем гаса за филмове са више{0}} елемената као што је ТиАлН?
О: Да. Регулатори масеног протока (МФЦ) користе оптичку емисију или повратну спрегу парцијалног притиска да стабилизују реактивне протоке (Н2, ЦХ4) и одржавају стехиометријски састав.
П: Који су захтеви за електричну енергију?
О: Стандардни системи захтевају 3-фазно напајање (380В-480В, 50/60 Хз), са укупним капацитетом оптерећења од 60 кВА до 150 кВА у зависности од количине катоде.
Popularne oznake: више-систем за јонско таложење, Кина, произвођачи, добављачи, фабрика за више-системе за јонско таложење

