Систем за таложење танког филма помоћу индустријских јона{0}}
Систем за таложење танког филма уз помоћ јона интегрише више-џепних електронских-снопова/термално испаравање са извором јона високих-Енд-Халов или Кауфманов{5}} типова високих перформанси. Током физичког таложења паре (ПВД), енергетско бомбардовање јонима преноси замах директно на адатоме на површини супстрата, елиминишући шупљине у стубној микроструктури и производећи танке филмове високе -густине, еколошки стабилне.
Конструисана за производњу прецизне оптике, полупроводничке микроелектронике и напредне објекте за истраживање и развој, ова платформа пружа строгу поновљивост серије-до-за сложене филтере за оптичке сметње, тврде заштитне слојеве и слојеве за пасивизацију полупроводника.
Техничке спецификације
|
Параметар |
Спецификација |
|
Димензије коморе |
Φ 600 мм × 600 мм (прилагођено скалирање доступно до Φ 1200 мм) |
|
Крајњи основни притисак |
< 5.0 × 10⁻⁵ Pa (Fully baked, dry pumping architecture) |
|
Апартман за вакуумско пумпање |
1600 Л/с магнетно левитирана турбомолекуларна пумпа подржана комбинацијом-без уља роот/сцролл сува пумпа |
|
Извори испаравања |
Више{0}}џепни Е- пиштољ (4 × 10 кВ контрола померања) и отпорни термални извори |
|
Конфигурација извора јона |
Крај без мреже-Халл / Кауфманов извор са мрежом (енергија снопа: 50–1500 еВ, јонска струја: до 250 мА) |
|
Супстрат Фиктуре |
Степен планетарне ротације са променљивом-брзином са интегрисаним загревањем подлоге до 350 степени |
|
Уједначеност дебљине филма |
< ± 1% (measured across Φ 400 mm effective deposition zone) |
|
Систем контроле процеса |
ПЛЦ језгро интегрисано са индустријским рачунаром који покреће СЦАДА софтвер за аутоматизацију{0}}на рецептима |
Кључне карактеристике
Моментум{0}}Побољшана микроструктура:Контролисана помоћ јонима повећава покретљивост површине адатома, ефикасно потискујући раст порозних стубних зрна и елиминишући померања индекса преламања узрокована апсорпцијом влаге.
Дуал{0}}Повратна информација о дебљини канала:Интегрише сонде са двоструким кварцним кристалом (КЦМ) уз портове за широкопојасни оптички надзор (БОМ) за -нанометарску{1}} регулацију дебљине и брзине у реалном времену.
Ултра{0}}чиста вакуумска комора:Направљен од нерђајућег челика 304Л са унутрашњим електро-полираним завршетком, металним-заптивним вентилима за ПДВ и пнеуматским металним-прирубницама за заптивање како би се смањило испуштање гасова.
Регулација о реактивном гасу са затвореном{0}}петљом:Високо{0}}прецизни регулатори масеног протока (МФЦ) мере реактивни кисеоник, азот и гасове аргона са резолуцијом испод-сццм да би обезбедили стехиометријске слојеве једињења.
Конфигурација вакуумског система
Линија грубе обраде:Херметички затворене, без{0}}уљне суве спиралне пумпе елиминишу ризик од контаминације угљоводоницима у фазама грубе и предње линије.
Интеграција високог вакуума:Маглев турбомолекуларне пумпе повезане директно са главном комором преко пнеуматских засуна високе{0}}кондуктивности максимизирају брзину пумпања за процесну и заосталу водену пару.
Вакумска дијагностика:Редундантни мерачи Пирани и хладне катоде обезбеђују континуирано, унакрсно{0}}калибрисано бележење притиска од атмосфере до 10⁻⁷ Па.
Компатибилност материјала за испаравање и подлоге
Материјали за испаравање:Диелектрични оксиди: СиО₂, ТиО₂, Та₂О₅, Нб₂О₅, ХфО₂, Ал₂О₃
Флуориди:МгФ₂, ЛаФ3
Ватростални метали:Ау, Аг, Ал, Ти, Цр, НиЦр
Подтипови супстрата:Оптичко стакло (БК7, топљени силицијум диоксид, кварц), полупроводничке плочице (силицијум, ГаАс), монокристалне подлоге (ЛиНбО₃, сафир) и прецизне металне компоненте.
Апликације
Прецизна оптика:Филтери са ускопојасним-мултиплексом са поделом таласне дужине (ВДМ), огледала ласерских линија и издржљиви премази против-одбојности (АР) за ласерске системе велике{2}}
Производња полупроводника:Диелектрици од оксида капије, слојеви семена адхезије између метала и слојеви против влаге{0}}за пасивизацију.
Напредна оптоелектроника:Танки{0}}поларизатори, слојеви таласовода и провидни проводљиви оксид (ТЦО) додирни{1}} филмови.
Прилагођавање
Ограде коморе:Вертикална цилиндрична звона-тегле, двострука-квадратна кутија са двоструким вратима или дизајни чистих просторија који пролазе-.
Модуларност извора:Прилагођени број џепова у лончићу, интеграција катоде секундарног магнетрона за распршивање или специјализована подешавања снаге РФ пристрасности.
Архитектура аутоматизације:Прилагођена логика ПЛЦ интерлоцк, СЦАДА безбедносни нивои дозвола и СЕЦС/ГЕМ протоколи за евидентирање{0}} података о хосту.
Контрола квалитета
Валидација компоненте:Све структурне прирубнице, вакуумски улази, енергетска електроника и контролери протока масе пролазе индивидуално димензионално и електрично тестирање на столу пре монтаже.
Потврда о цурењу:Састављене коморе се подвргавају тестирању цурења хелијум масеног спектрометра; праг одбијања мора остати испод 1,0 × 10⁻⁹ Па·м³/с.
Фабричко прихватљиво тестирање (ФАТ):Обавезна 72-непрекидна провера рада на суво-од 72-које обухвата криве повлачења пумпања, механику планетарне ротације са више-оса, сигурносне петље за блокирање и стабилност емисије е-зрака.
Инсталација и техничка подршка
Документација:Испоручује се са цртежима механичког склопа, електричним шемама, П&ИД распоредима, ПЛЦ логичким изворним регистрима и водичима за превентивно одржавање.
На-Пуштању у рад на локацији:Инжењери теренске службе усмеравају механичко позиционирање, прикључке на комуналне услуге (струја, расхладна вода, компримовани ваздух) и почетно печење{0}}система.
Процесна обука:Укључује основну калибрацију, подешавање параметара извора јона и обуку о безбедносном протоколу оператера.
Нега животног циклуса:Даљинска дијагностичка подршка путем шифрованих ВПН модула, регионалног складиштења резервних делова и заказаних ревизија калибрације.
ФАК
П: Како се прати дебљина слоја током вишеслојног таложења-?
О: Систем користи двоструке микровагне кристала кварца (КЦМ) за праћење брзине и дебљине у реалном-времену. За сложене оптичке сметње, он се интегрише са широкопојасним оптичким системима за праћење како би исправио тачке завршетка слоја директно из кривуља спектралног преноса.
П: Која је комунална инфраструктура потребна на месту инсталације?
О: Електрично напајање: 3-фазно, 380В / 480В, 50/60Хз (конфигурисано према регионалним стандардима мреже).
Вода за хлађење: Температура 15–20 степени, минимални проток 30 Л/мин, притисак напајања 0,3–0,4 МПа.
Process Gases: Ultra-high purity (>99,999%) Ар, О₂ и Н2 су регулисани чисто на 0,15 МПа.
П: Које је стандардно време испоруке од потврде поруџбине до испоруке?
О: Стандардне конфигурације обично захтевају 16 до 20 недеља. Потпуно прилагођене димензије коморе или платформе за интеграцију са више-извора захтевају 24 до 30 недеља, у зависности од потписивања-инжењерског дизајна и набавке специјализованих компоненти.
Popularne oznake: Систем за таложење танког филма уз помоћ јона-, Кина произвођачи, добављачи, фабрика система за таложење танког филма са јоном{1}}

