ИБАЕ систем комбинује електронски-сноп или термичко испаравање са интегрисаним -извором јона са широким снопом. Истовремено бомбардовање јонима током раста филма преноси кинетичку енергију кондензационим адатомима, елиминишући колонасте микроструктуре и производећи танке филмове скоро{3}}насипне-густине са минималним спектралним померањем-индукованим влагом.
Техничке спецификације
|
Параметар |
Спецификација |
|
Басе Прессуре |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Радни притисак |
1,0 к 10^(-1) до 1,0 к 10^(-2) Па |
|
Тип извора јона |
Ендлесс Енд-Халл / Кауфманн јонски извор |
|
Енергија јонског снопа |
50 еВ до 1500 еВ (стабилизована затворена{2}}петља) |
|
Густина струје јонског снопа |
0 до 2,5 мА/цм^2 |
|
Извори испаравања |
Више{0}}џепни Е- пиштољ (4 к 15 цц до 6 к 40 цц) / Отпорни чамци |
|
Држач супстрата |
Планетарни ротациони уређај са загревањем до 300 степени Ц |
|
Уједначеност дебљине |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Контролни систем |
Сиеменс С7-1500 ПЛЦ + индустријски ПЦ (Инфицон контролер таложења) |
Кључне карактеристике
Двоструки{0}}режим бомбардовања:Пренос кинетичке енергије згушњава филмове на ниским температурама подлоге, штитећи осетљиву оптику и полимерне подлоге.
Затворена{0}}јонска стабилизација:Интегрисани контролери масеног протока одржавају константан ток јона током дугих производних циклуса, обезбеђујући конзистентност серије.
Модуларна вакуумска комора:Структура од нерђајућег челика 304Л са електро-полираном унутрашњошћу (Ра<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Аутоматско секвенцирање:ПЛЦ-управљани циклуси пумпања{1}}, таложења и одзрачивања минимизирају оперативне варијације.
Конфигурација вакуумског система
Пумпе за грубу обраду:Без уља{0}}суви корени и крилне пумпе.
Високо вакуумска пумпа:Магнетно левитирана турбомолекуларна пумпа (1600 Л/с).
Мерила:Комбиновани манометри Пирани, хладна катода и Баратрон капацитивни манометри.
вентилација:Пнеуматски засун и угаони вентили са хардверским сигурносним блокадама.
Компатибилност материјала за испаравање и подлоге
оксиди:СиО2, Та2О5, ТиО2, Нб2О5, Ал2О3
Флуориди:МгФ2, ЛаФ3
метали:Ау, Аг, Ал, Ти, Цр
Подлоге:Таљени силицијум, БК7, силицијумске плочице, германијум, цинк селенид (ЗнСе) и полиимид отпоран на топлоту{1}}.
Апликације
Прецизна оптика:Ускопојасни филтери и ДВДМ премази који захтевају стабилне централне таласне дужине.
Ласерска оптика:Рефлектори са високим{0}}оштећењима{1}}и-премази против рефлексије.
Полупроводници и фотоника:Диелектрични заштитни слојеви, пасивација и оптички таласоводи.
соларна енергија:Модификација интерфејса транспарентног проводног оксида (ТЦО).
Прилагођавање
Величина коморе:Скалабилност пречника од 600 мм до 1200 мм.
Изглед извора:До три е-топа и више термалних извора по платформи.
Ин-Метрологија на лицу места:Широкопојасни оптички надзор (БОМ) или интеграција микробаланса кристала кварца (КЦМ).
аутоматизација:Роботски интерфејси за пуњење супстрата у складу са СЕМИ стандардима.
Контрола квалитета
Детекција цурења:Испитивање масеног спектрометра хелијума по комори (осетљивост<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Извор компоненти:Тиер-1 индустријски брендови (Инфицон, МКС, Едвардс, Сиеменс).
Фабричко прихватање (ФАТ):72-часовни континуирани рад на сувом и верификациони премаз за мерење индекса преламања и униформности пре слања.
Инсталација и техничка подршка
Документација:Комплетан пакет на енглеском укључујући електричне шеме, П&ИД дијаграме и ПЛЦ изворне кодове.
Теренске службе:Инсталација по систему кључ у руке, калибрација вакуума и подешавање рецептура од стране инжењера апликација.
Даљинска дијагностика:Безбедни ВПН модул за решавање проблема са софтвером и процесима.
ФАК
П: Како помоћ јонима мења индекс преламања оксида?
О: Енергетско јонско бомбардовање избацује заробљене заостале гасове и згушњава микроструктуру, померајући индекс преламања филмова као што су Та2О5 и ТиО2 ближе вредностима запремине.
П: Који је типичан интервал одржавања за извор јона?
О: Интервали одржавања се крећу од 150 до 300 сати обраде, у зависности од процесних гасова и густине радне снаге.
П: Може ли овај систем управљати процесима реактивног гаса?
О: Да. Независни регулатори масеног протока убризгавају реактивне гасове (О2, Н2) директно у извор јона и зоне коморе, повезани са сигурносним прекидачима притиска.
Popularne oznake: Опрема за испаравање потпомогнута јонским снопом, Кина произвођачи опреме за испаравање уз помоћ јонског снопа, добављачи, фабрика
