Опрема за таложење танких филмова ИА-Серије-потпомогнута јонима интегрише термичко испаравање електронским-снопом са Кауфмановим или Енд-Халовим извором јона. Енергетско јонско бомбардовање (мешавина аргон/кисеоник) током таложења преноси замах на адатоме, елиминишући стубне шупљине, потискујући апсорпцију влаге и стабилизујући индексе преламања. Дизајнирана за високо{6}}прецизно истраживање и развој и континуирану производњу, комора од нерђајућег-челика одржава основни притисак испод 5 к 10^-6 Па да би испоручила густе, стехиометријске танке филмове за оптику, сензоре и полупроводнике.
Техничке спецификације
|
Параметар |
Детаљи спецификације |
|
Димензије коморе |
Пхи 800 мм к 700 мм (прилагодљиво до Пхи 1200 мм) |
|
Басе Прессуре |
<= 5.0 x 10^-6 Pa (Achieved within 40 minutes from atmosphere) |
|
Радни притисак |
1,0 к 10^-2 Па до 8,0 к 10^-1 Па |
|
Извори испаравања |
Више{0}}џепни е- пиштољ (6 к 15 цц или 4 к 40 цц) са контролом померања |
|
Тип извора јона |
Кауфман/Енд{1}}Халл (Енергија јона: 50 - 1500 еВ) заснована на мрежи{0}} |
|
Супстрат Фиктуре |
Планетарна ротација (0 - 25 РПМ) са грејачем (РТ - 350 степен Ц) |
|
Контрола дебљине |
Двоканални-канални монитор са кварцним кристалом (КЦМ)/опција за оптичко праћење |
|
Систем за пумпање |
Турбомолекуларна магнетна левитација + Роотс + ротирајућа лопатична пумпа |
Кључне карактеристике
Згушњавање микроструктуре:Истовремено бомбардовање јонима повећава густину паковања близу вредности запремине тако што урушава границе зрна.
Контрола унутрашњег стреса:Подесиви односи јона-на-пристизања атома спречавају раслојавање филма на ломљивим подлогама (силицијум, германијум, фузионисани силицијум).
Побољшана адхезија:Претходно{0}}чишћење путем јонског нагризања уклања природне оксиде и површинске загађиваче пре наношења.
Затворена{0}}Аутоматизација:ПЛЦ архитектура аутоматизује секвенцирање вакуума, активирање затварача, повећање снаге и гасне МФЦ-ове.
Топлотна изолација:Водом хлађени зидови коморе и штитови од зрачења штите подлоге од зрачења огњишта е-е.
Конфигурација вакуумског система
Високо{0}}вакум пумпа:Магнетна левитациона турбомолекуларна пумпа (1600 Л/с за Н2) за рад-без уља.
Фаза грубе обраде:Окретна лопатица са директним{0}}погоном упарена са Роотс вентилатором за брзо скретање.
Заптивање и вентили:Пнеуматски засуни са заптивкама са ознаком Витон/Метал за печење{0}}.
блокаде:Пирани и мерачи са хладном катодом интегрисани са круговима заштите од надпритиска.
Компатибилност материјала
Материјали за испаравање:
Оксиди (СиО2, Та2О5, ТиО2, Нб2О5)
Флуориди (МгФ2, ИФ3)
Ватростални метали (Ти, Цр, Ал)
Материјали подлоге:
Таљени силицијум, оптичко стакло, ЗнСе, силиконске плочице, ГаАс, нерђајући челик.
Апликације
Прецизна оптика:Анти-премази против рефлексије, пропусни филтери и огледала високе{1}}одбојности за ласерске и ДВДМ телекомуникационе системе.
ИР прозори:Заштитне, издржљиве анти-филмове на германијумској и силицијумској термовизијској оптици.
Полупроводници:Диелектричне изолационе фолије и метални контактни пасивациони слојеви.
Оптоелектроника:Транспарентни проводљиви слојеви оксида за сензорске низове и равне панеле.
Опције прилагођавања
Геометрија коморе:Прилагођене димензије коверте за специјализоване производне шаблоне или оптику великог{0}}формата.
Интеграција извора:Двоструке конфигурације е-пиштоља, чамци отпорни на топлоту или реактивни извори термичког пуцања.
аутоматизација:СЕЦС/ГЕМ{0}}усаглашени са{1}}производним софтверским пакетима.
Причвршћивачи за подлогу:Прилагођени држачи за закривљена сочива, микро{0}}призме или плочице од 300 мм.
Контрола квалитета и фабричка испитивања
Стандарди усклађености:Направљен према ЦЕ и СЕМИ С2/С8 смерницама за чисте собе.
Детекција цурења:Тестирање хелијум масеног спектрометра на свим завареним спојевима (стопа цурења<= 1 x 10^-10 Pa*m^3/s).
Урежи-у:72-часовни континуирани рад на суво механичке пролазе и блокаде.
Провера униформности:Спектрофотометријска анализа која потврђује дистрибуцију дебљине унутар +/- 1% преко држача.
Инсталација, време испоруке и техничка подршка
Временски рок испоруке:Стандардно време израде, ФАТ-а и складиштења је 16 до 20 недеља од техничког потписивања-одјављивања и депоновања.
Припрема локације:Свеобухватно упутство за употребу је унапред обезбеђено (наводећи проток охлађене воде, снагу од 380 В и компримовани ваздух).
Пуштање у рад:Инсталација, калибрација и подешавање процеса-на лицу места од стране виших инжењера на терену.
Подршка животног циклуса:Критични резервни делови на локалном складишту (филаменти, кристали кварца, комплети заптивки) за брзу отпрему.
Често постављана питања
П: Који је интервал одржавања за мрежу извора јона?
О: Чишћење мреже и замена филамента се дешавају на сваких 150 до 300 радних сати, у зависности од реактивних гасова. Дизајни брзог{3}}опуштања омогућавају замену за мање од 30 минута.
П: Како таложење уз помоћ јона{0}} (ИАД) утиче на оптичке премазе?
О: ИАД елиминише померање влаге урушавањем стубних структура. На пример, СиО2 филмови задржавају стабилан индекс преламања од 1,46 у влажним срединама.
П: Да ли се безбедно управља процесима реактивног гаса?
О: Да. Регулатори масеног протока регулишу убризгавање О2 или Н2 директно у извор јона, уз помоћ сигурносних-вентила за аутоматско затварање и циклуса прочишћавања.
П: Који су захтеви за комуналне услуге?
A: Chilled cooling water (>= 50 Л/мин, 18 - 22 степен Ц), компримовани ваздух (0.4 - 0.6 МПа) и наменска 3-фазна електрична напајања.
Popularne oznake: Опрема за таложење танког филма уз помоћ јона-, Кина произвођачи, добављачи, фабрика опреме за таложење танког филма са јоном{1}}

