Опрема за испаравање танког филма електронског зрака

Опрема за испаравање танког филма електронског зрака

Detalji
Серија ЕБЕ-В600 је индустријска-платформа за физичко таложење паром (ПВД) дизајнирана за прецизно-превлачење танким филмом оптичких компоненти, полупроводничких уређаја и напредних материјала. Усмеравањем високо{5}}енергетског, магнетно фокусираног снопа електрона на изворне материјале унутар лонаца хлађених водом-, систем постиже брзе стопе испаравања уз задржавање топлотних оптерећења изолованих од зидова коморе.
Klasifikacija proizvoda
Опрема за испаравање танког филма електронског зрака
 
Pošalji upit
Opis
Tehničke karakteristike

Серија ЕБЕ-В600 је индустријска-платформа за физичко таложење паром (ПВД) дизајнирана за прецизно-превлачење танким филмом оптичких компоненти, полупроводничких уређаја и напредних материјала. Усмеравањем високо{5}}енергетског, магнетно фокусираног снопа електрона на изворне материјале унутар лонаца хлађених водом-, систем постиже брзе стопе испаравања уз задржавање топлотних оптерећења изолованих од зидова коморе.


Архитектура укључује више-џепне изворе електрона и сензоре микробаланса са двоструким кристалом кварца (КЦМ), обезбеђујући стехиометријску верност филма и доследну контролу дебљине у више-слојним диелектричним или металним слојевима.

 

Техничке спецификације

 

Тецхницал Параметер

Специфицатион Валуе

Геометрија коморе и материјал

Φ600 мм к 600 мм цилиндрична посуда; СС304 електрополирана унутрашњост са спољним воденим јакнама за хлађење

Крајњи основни притисак

<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping)

Испумпајте{0}}време циклуса

<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa)

Елецтрон Гун Повер

6 кВ до 12 кВ конфигурација са више- џепова са отклоном снопа од 270 степени

Капацитет огњишта Цруцибле

4 до 6 џепова (заменљиве бакарне/графитне лонце, запремина од 15цц до 40цц по џепу)

Ротација фазе супстрата

Планетарни или директни погон променљиве брзине од 0 до 30 обртаја у минути

Опсег загревања подлоге

Амбијент до 600 степени преко ПИД-а са затвореном{1}}петљом низа халогених лампи

Праћење дебљине

Двоструки КЦМ сензори са аутоматском повратном контролом затварача

 

Кључне карактеристике


Магнетни отклон од 270 степени Е-Пиштољ:Изолује волфрамову нит од директних путева паре, спречавајући кратко{0}}спајање и продужавајући радни век између интервала одржавања.


Дигитал Свееп Цонтрол:Програмабилни растерски обрасци равномерно распоређују енергију електрона по површини испаравања, ублажавајући стварање рупица и преференцијално испаравање током таложења легуре.


Раздвојена вакуумска архитектура:Линије за грубу обраду и високо{0}}вакуумске пумпе су структурално изоловане од оквира главне коморе да би се сузбио пренос механичких вибрација током раста филма.


Сигурносна матрица хардверских блокада:ПЛЦ праћење у-реалном времену протока воде за хлађење, повратне информације високог-напона, пнеуматског притиска и интегритета заптивке врата.

 

Конфигурација вакуумског система


Вакуумско под{0}}коло је пројектовано за брзи циклус и низак базни притисак како би се минимизирало инкорпорирање заосталог гаса (Х2О, О2, Н2) у филмове који расту:


Високо{0}}вакумска пумпа:1200 Л/с турбо-молекуларна пумпа подржана двостепеном-окретном лопатичном пумпом (или конфигурација суве спиралне пумпе за усаглашеност са чистом просторијом).


Изолациони вентил:Пнеуматски покретан запорни вентил високе{0}}проводљивости који изолује комору током операција оптерећења.


Мерење вакуума:Комбиновани мерачи јонизације Пирани и хладне катоде који покривају континуирани опсег од атмосфере до 10^-6 Па.

 

Филмски материјали и подлоге

 

Компатибилни извори испарења

Оксиди и диелектрици:СиО2, ТиО2, Та2О5, Ал2О3, ХфО2

чисти метали:Ау, Аг, Ал, Ти, Цр, Пт, Ни

Полупроводници и проводници:Си, Ге, ИТО (индијум калај оксид)

 

Апликације


Филтери оптичких сметњи:Висок{0}}индекс и низак{1}}вишеслојни-индекс са ниским индексом за наношење уско-филтара и ласерских огледала.


Израда полупроводничких уређаја:Формирање омског контакта, таложење оксида на вратима и слојеви семена метала.


Истраживање ОЛЕД-а и екрана:Таложење на танкој металној катоди и више-слојни тестови органске/неорганске пасивације.


Тврди ватростални премази:Заштитни слојеви{0}}отпорни на хабање за механичке и ваздухопловне компоненте.

 

Прилагођавање


Проширење коморе:Проширене висине посуда или правоугаоне геометрије прилагођене за интеграцију кластер алата.


Интеграција извора:Истовремени извори топлотног испаравања (отпорни чамци) у комбинацији са топовима са електронским снопом.


Ион{0}}потпомогнуто таложење (ИАД):Интеграција крајњег-Халовог или Кауфмановог јонског извора за згушњавање филма и подешавање напона.


Архитектура софтвера:ПЛЦ/ХМИ програмирање рецептура усаглашено са Сиеменс С7 или Бецкхофф оквирима за аутоматизацију.

 

Контрола квалитета


Масени спектрометар Испитивање цурења хелијума:Сваки коморни завар се тестира на праг одбацивања од < 1 к 10^-9 Па·м3/с пре интеграције.


Електрична усклађеност:Високо{0}}тестирање диелектричне отпорности и верификација континуитета уземљења према ЦЕ/УЛ смерницама.


Фабричко прихватљиво тестирање (ФАТ):72-непрекидно суво-провођење теста у трајању од 72- сата, евидентирање основних кривих притиска, поновљивост покрета е-зрака и време одзива међублокирања. Тестна документација се испоручује са јединицом.

 

Инсталација и техничка подршка


Пуштање у рад локације:Фабрички{0}}сертификовани инжењери управљају механичким поравнањем, верификацијом цурења вакуума, надзором прикључка на струју и почетним калибрацијама.


техничка обука:3-дневна обука о протоколу рада и одржавања на лицу места која обухвата замену филамента, реконструкцију вакуумског вентила и уређивање рецептура.


Испоручена документација:Комплетна техничка повезивача укључујући П&ИД шеме, електричне дијаграме ожичења, ПЛЦ фајлове резервних копија и резервне делове.

 

Често постављана питања

 

П: Колики је радни век волфрамовог филамента е-пиштоља и како се сервисира?

О: Под стандардним радним притисцима (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.

П: Како систем спречава пљување током таложења оксида?

О: Дигитални свееп генератор дистрибуира енергију електрона преко израчунате растерске матрице на оксидној куглици. Ово елиминише локализовано прегревање, спречава експлозивно кључање и потискује избацивање микро-капљица.

П: Која комунална инфраструктура је обавезна на месту постављања?

A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 Л/мин, температура од 18 до 25 степени.
Електрична мрежа: 3-фаза, 380В ± 10%, 50/60 Хз (или фабрички конфигурисана према регионалним стандардима).
Компримовани ваздух: 0,5 МПа до 0,7 МПа суви ваздух за пнеуматске актуаторе вентила.

П: Да ли је даљински дијагностички приступ интегрисан у контролни систем?

О: Да. Изоловани Етхернет порт подржава безбедну ВПН везу за удаљено преузимање евиденције ПЛЦ-а и решавање проблема са софтвером од стране нашег инжењерског тима.

 

Popularne oznake: Опрема за испаравање танког филма електронским снопом, произвођачи, добављачи, фабрика опреме за испаравање електронских зрака у Кини

Pošalji upit
Контактирајте насако имате било какво питање

Можете нас контактирати путем телефона, е-поште или онлајн обрасца испод. Наш стручњак ће вас ускоро контактирати.

Контактирајте сада!